清洗劑 - 切削液 - 防銹劑 實力研發定制廠家

研磨拋光液殘留清洗劑方案

化學機械拋光液（CMP）是近年來處于前端的研磨拋光方式，大致有二氧化硅拋光液，氧化鈰拋光液，氧化鋁拋光液等等常見材料。當金屬材料拋光至鏡面效果時，拋光液在物理和化學同時作用下，在基材上面形成頑固的固體殘留物。尤其是使用納米二氧化硅（硅溶膠）拋光過的鋁合金高光鏡面，在拋光液干涸在基材表面，已經是業界頭等清洗難題。遠岸金屬清洗劑，用水性分散原理，解決行業拋光液殘留的棘手問題。